De cursus bestaat uit een mix van lezingen, praktijkcases, demonstraties en hands-on oefeningen. De cursus bevat richtlijnen, do's & don'ts en een actueel en onbevooroordeeld overzicht van de momenteel beschikbare vision-componenten/oplossingen. Het cursusmateriaal weerspiegelt de jarenlange praktijkervaring van de trainers, zowel in de industrie als in toegepast onderzoek.
Basiscursus over alle aspecten van machine vision zoals toegepast in mechatronische systemen.
Deelnemers verwerven een evenwichtig inzicht in alle relevante aspecten, waaronder beeldvorming (optica, verlichting, sensorkarakteristieken), beeldverwerkingshardware/software en integratieaspecten van machine vision in een totaalsysteem.
De training is beschikbaar voor in-company sessies.
Doelstelling
Na afronding van de cursus begrijpen de deelnemers de essentiële basisprincipes van alle aspecten van machine vision, waardoor ze:
- beter samenwerken met visueel specialisten;
- set-up belangrijkste specificaties;
- de belangrijkste kenmerken en implicaties van alternatieve zichtoplossingen op systeemniveau beoordelen;
- het optimale visionsysteem kiezen of de ontwikkeling ervan sturen.
Doelgroep
Deze cursus is bedoeld voor ingenieurs, systeemontwerpers, architecten en projectleiders die betrokken zijn bij de multidisciplinaire ontwikkeling van systemen waarin vision wordt toegepast voor geometrische metingen, productinspectie, identificatie, uitlijning en assemblage.
Vereisten: Technisch onderwijs (BSc of hoger).
De cursus trekt deelnemers uit binnen- en buitenland, waardoor een internationale sfeer ontstaat die waardevolle kennisuitwisseling bevordert. Als je uit het buitenland komt, kun je hier nuttige reisinformatie vinden.
Programma
Day 1
Beeldvorming: Belangrijkste kenmerken van de belangrijkste elementen in het machine vision-systeem
- Sensor: CCD/CMOS, dynamisch bereik, snelheid, pixels, ...
- Optica: lensformule, brandpuntsafstand, vergroting, scherptediepte, resoluties, ...
- Object: vorm, oppervlakte-eigenschappen, kleur
- Verlichting: interactie tussen object en licht, basisinstellingen voor verlichting, lichtbronnen en bediening
Beeldverwerking
- Mogelijkheden en beperkingen van beeldverwerkingstechnieken
- Onderliggende technieken voor objectlokalisatie en geometrische metingen (zoals blob- en contouranalyse en patroonmatching)
- Kalibratie van lenssysteem en verlichting
- Overzicht van tools voor evaluatie en implementatie van beeldverwerkingsfunctionaliteit
Day 2
Systeemaspecten
- Nauwkeurigheid: foutbronnen, foutbudgettering, kalibratie, absolute <> relatieve nauwkeurigheid
- Snelheid: snelheid van sensor, snelheid van gegevenstransport, snelheid van verwerkingseenheid, latentie
- Integratie van machine vision in het totale systeem
- Mogelijkheden en beperkingen
Toepassingen: De toepassingsvoorbeelden variëren van goedkope consumentenapparatuur tot high-end industriële vision-toepassingen.
- 2D optisch volgsysteem
- SMD-componententeller
- 3D meetsysteem
Onderwerpen voor gevorderden
- Vluchttijdmeting
- Microsoft Kinect
Methoden
Certificering
Deze cursus is gecertificeerd door de European society for precision engineering & nanotechnology(euspen) en de Dutch Society for Precision Engineering(DSPE) en leidt tot het ECP2-certificaat.
Cursusbeoordelingen
"Aangename en nuttige cursus."
D. Hennekens - Vanderlande
Blijf op de hoogte
Ontvang onze maandelijkse updates
