Deelnemers krijgen een mix van conceptuele achtergrond, do's en dont's en praktische inzichten via lezingen, video's en live demonstraties van sensoren en meetapparatuur in combinatie met individuele en groepsopdrachten.
Deze cursus richt zich op de verschillende aspecten van metrologie en kalibratie van precisiemodules/systemen. Deelnemers verwerven theoretische achtergrond en praktische inzichten inclusief do's & don'ts - zowel op het niveau van systeemontwerp als op het niveau van detailengineering - met betrekking tot metrologie en kalibratie die essentieel zijn voor het succesvol ontwikkelen en bouwen van precisiemodules/systemen.
Deze training is zowel beschikbaar voor open inschrijving als voor in-company sessies.
Doelstelling
Na afloop van de cursus begrijpen de deelnemers de basisaspecten, risico's en concepten met betrekking tot metrologie en kalibratie en zijn ze in staat om oplossingen en implicaties op systeemniveau te beoordelen.
Doelgroep
Deze cursus is bedoeld voor mechatronicaontwerpers, systeemingenieurs en architecten die betrokken zijn bij de multidisciplinaire ontwikkeling van nauwkeurige bewegingsmodules/systemen waarbij metrologie en kalibratie een belangrijke rol spelen in de algehele systeemnauwkeurigheid.
Vereisten: Technische opleiding (BSc of hoger), met minimaal twee jaar ervaring en bij voorkeur afronding van de cursus "Mechatronica systeemontwerp" (Metron1&2) of de voormalige Philips-CTT cursus Metron.
De cursus trekt deelnemers uit binnen- en buitenland, waardoor een internationale sfeer ontstaat die waardevolle kennisuitwisseling bevordert. Als je uit het buitenland komt, kun je hier nuttige reisinformatie vinden.
Programma
Day 1
Inleiding: Metrologische definities
- SI-systeem en traceerbaarheid
- Definities (herhaalbaarheid, reproduceerbaarheid, onzekerheid etc.)
- Onderdelen van een meetsysteem
Korte afstand sensoren
- Sensorterminologie (bereik, resolutie, gevoeligheid enz.)
- Sensortypen (capacitief, inductief, optisch enz.)
Langeafstandssensoren
- Verplaatsingsinterferometrie (principe, componenten, foutbronnen enz.)
- Encoders (theorie, verschillende typen)
Day 2
Casus inleiding
- Meetmachine voor vrije-vorm optiek
- Case zal worden gebruikt en ontwikkeld tijdens de cursus
- Analyse van bestaande oplossingen
- Prestaties schatten (onzekerheidsberekening)
Mechatronische context
- Overzicht besturingstheorie
- Invloed van sensoreigenschappen
- Invloed van sensorplaatsing
- Correcties toepassen
Metrologie op systeemniveau
- Ontwerpprincipes voor lage onzekerheid
- Soorten fouten
- Regels van Abbe en Bryan
- Lussen in het systeem
- Hoeveelheid
- Basisprincipes voor foutbudgettering
Dag 3
Systeemkalibratie
- Kalibratie-terminologie
- Kalibratie-instrumenten & artefacten
- Zelfkalibratie en omkeertechnieken
- Toepassingsvoorbeelden
- Gebruik van kalibratiegegevens
Machine Vision: Kast SMT-systeem
- Vision-metrologie
- Kalibratie van serieproducten
- Gegevenslogistiek voor veldvervangingseenheden
Methoden
Certificering
Deze cursus is gecertificeerd door de European society for precision engineering & nanotechnology(euspen) en de Dutch Society for Precision Engineering(DSPE) en leidt tot het ECP2-certificaat.
Cursusbeoordelingen
"Belangrijkste dingen die ik heb geleerd: Breed overzicht van kalibratiestrategieën."
Peter Schaap - ASML"Goed georganiseerd, leuke docenten, goed materiaal."
Niels Bosch - ASML"Goede training die de theorie geeft over waarom we kalibraties nodig hebben."
Dat Hoang - Sioux Technologies"Erg leuke training met een mooie praktijkcase die als rode draad door de cursus loopt."
Glenn Roumen - Sioux Technologies"Interessante training, behandelt veel aspecten."
Thomas Lembrechts - Sioux Technologies
Blijf op de hoogte
Ontvang onze maandelijkse updates
