Deelnemers krijgen een mix van conceptuele achtergrond, do's en dont's en praktische inzichten via lezingen, video's en live demonstraties van sensoren en meetapparatuur in combinatie met individuele en groepsopdrachten.
Deze cursus richt zich op de verschillende aspecten van metrologie en kalibratie van precisiemodules/systemen. Deelnemers verwerven theoretische achtergrond en praktische inzichten inclusief do's & don'ts - zowel op het niveau van systeemontwerp als op het niveau van detailengineering - met betrekking tot metrologie en kalibratie die essentieel zijn voor het succesvol ontwikkelen en bouwen van precisiemodules/systemen.
Deze training is zowel beschikbaar voor open inschrijving als voor in-company sessies.
Leerdoelen
Na afloop van de cursus begrijpen de deelnemers de fundamentele aspecten, risico's en concepten met betrekking tot metrologie en kalibratie en zijn ze in staat om oplossingen en implicaties op systeemniveau te beoordelen.
Doelgroep
Deze cursus is bedoeld voor ontwikkelaars, constructeurs, technologen en systeemarchitecten die betrokken zijn bij de multidisciplinaire ontwikkeling van nauwkeurige bewegingsmodules en -systemen waarbij metrologie en kalibratie een belangrijke rol spelen in de algehele systeemnauwkeurigheid.
Vereisten: Technische opleiding (BSc of hoger) met minimaal twee jaar ervaring en bij voorkeur afronding van de cursus "Mechatronics System Design”.
De cursus trekt deelnemers uit binnen- en buitenland, waardoor een internationale sfeer ontstaat die waardevolle kennisuitwisseling bevordert. Hier vind je nuttige reisinformatie.
Programma
Dag 1
Inleiding: definities binnen de metrologie
- SI-systeem en traceerbaarheid
- Definities (herhaalbaarheid, reproduceerbaarheid, onzekerheid etc.)
- Onderdelen van een meetsysteem
Korte afstand sensoren
- Terminologie (bereik, resolutie, gevoeligheid enz.)
- Sensortypen (capacitief, inductief, optisch enz.)
Lange-afstandssensoren
- Verplaatsingsinterferometrie (principe, componenten, foutbronnen enz.)
- Encoders (theorie, verschillende typen)
Dag 2
Introductie geavanceerde casus
- Meetmachine voor vrije-vorm optiek
- (deze casus wordt tijdens de cursus continu uitgediept)
- Analyse van bestaande oplossingen
- Inschatting van de meetonzekerheid
Mechatronische context
- Samenvatting regeltechniek
- Invloed van sensoreigenschappen
- Invloed van sensorplaatsing
- Analyse en toepassing van correcties en compensaties
Metrologie op systeemniveau
- Ontwerpprincipes voor lage onzekerheid
- Soorten fouten
- Regels van Abbe en Bryan
- Krachtslussen
- Nauwkeurigheidslussen
- Basisprincipes voor foutbudgettering
Dag 3
Systeemkalibratie
- Terminologie
- Kalibratie-instrumenten en meetartefacten
- Zelfkalibratie en omkeertechnieken (reversal techniques)
- Praktijkvoorbeelden
- Gebruik van kalibratiegegevens
Machine vision als meettechnologie, Praktijkvoorbeeld SMD-bestukkingsmachine
- Vision-metrologie
- Kalibratie van serieproducten
- Datalogistiek voor vervangingseenheden
Methodiek
Certificering
Deze opleiding is gecertificeerd door de European Society for Precision Engineering & Nanotechnology (EUSPEN) en de Nederlandse Vereniging voor Precisietechniek (DSPE) en leidt tot hetECP2-certificaat. DSPE reikt voor deze opleiding ook microcredentials uit.
Cursusbeoordelingen
"Belangrijkste dingen die ik heb geleerd: Breed overzicht van kalibratiestrategieën."
Peter Schaap - ASML"Goed georganiseerd, leuke docenten, goed materiaal."
Niels Bosch - ASML"Goede training die de theorie geeft over waarom we kalibraties nodig hebben."
Dat Hoang - Sioux Technologies"Erg leuke training met een mooie praktijkcase die als rode draad door de cursus loopt."
Glenn Roumen - Sioux Technologies"Interessante training, behandelt veel aspecten."
Thomas Lembrechts - Sioux Technologies
Blijf op de hoogte
Ontvang onze maandelijkse updates
